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发明名称
PHOTORESISTS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号
KR20040083079(A)
申请公布日期
2004.09.30
申请号
KR20047010898
申请日期
1999.10.26
申请人
发明人
分类号
G03F7/039;C08F290/04;G03F7/004;G03F7/38;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
主权项
地址
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