Bondsystem und Halbleitersubstratherstellungsvefahren

摘要

In einer Kammer (201), deren Inneres von einem Außenraum isoliert ist, ist eine Einheit (210) untergebracht, die ein erstes und ein zweites Substrat übereinander legt, nachdem die Oberflächen des ersten und zweiten Substrats gereinigt und/oder aktiviert wurden. In der von dem Außenraum isolierten Kammer (201) wird der Oberflächenzustand der Oberflächen des ersten und zweiten Substrats gemessen und werden die Oberflächen des ersten und zweiten Substrats auf der Grundlage dieses Messergebnisses gereinigt. Erst dann werden das erste und zweite Substrat übereinander gelegt.