首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Method of manufacturing a MIS structure on silicon carbide (SiC)
摘要
申请公布号
EP0831520(B1)
申请公布日期
2004.09.29
申请号
EP19970111179
申请日期
1997.07.03
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG
发明人
SCHOERNER, REINHOLD, DR.;FRIEDRICHS, PETER
分类号
H01L29/78;H01L21/04;H01L21/28;H01L29/24;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/28
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
半导体减震结构
晶圆缺陷侦测方法与系统
影像感测晶片组
半导体元件及其制造方法
半导体晶圆的处理方法
终端系统及其用户通讯装置
通讯装置、通讯控制方法、通讯控制程式以及记录有通讯控制程式之电脑可读取记录媒体
开合式固定信号线之连接器
附密封盒的电连接器
使用宽射束之非均一离子植入设备及方法
电浆处理装置
膜形成装置及膜形成方法
半导体制程用成膜方法及装置
具有导热及导电作用之丝、纱捻线及其编织物
奈米防火纺织物
使用由粗棉短绒制成之保水剂之以水泥为主之系统
用于CCFL之驱动装置DRIVING APPARATUS FOR CCFL
分散式串流伺服器
判断讯息正确性之方法
在网路通道闸道器上提供差别服务之请求排程方法