| 发明名称 |
Method for regulating sputtering processes |
| 摘要 |
The invention relates to a method for regulating MF or HF sputtering processes, a harmonic analysis of the electrical discharge parameters being implemented and the MF or HF output and/or the reactive gas flow being regulated on the basis of the analysis results.
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| 申请公布号 |
US6797128(B1) |
申请公布日期 |
2004.09.28 |
| 申请号 |
US20020148099 |
申请日期 |
2002.07.29 |
| 申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
发明人 |
SZYSZKA BERND;MALKOMES NIELS |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/00;H01J37/32;H01L21/31;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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