含甲醇且以矽石为主之CMP组合物METHANOL-CONTAINING SILICA-BASED CMP COMPOSITIONS

摘要

本发明系提供一种抛光组合物，其包含(a)一种二氧化矽研磨剂，(b)甲醇，及(c)一种液体载剂，其中该抛光组合物的pH为1至6，而且该抛光组合物是胶体安定的。本发明也提供一种利用该抛光组合物抛光基板之方法，其中该基板包含一以二氧化矽为基础之介电层。本发明另提供一种藉二氧化矽研磨剂与甲醇接触以安定抛光组合物中之该研磨剂的方法。