发明名称 | 空间部分相干光束的强度分布的衍射整形 | ||
摘要 | 介绍了一种借助于周期衍射光学元件(704)整形强度分布和改善由空间部分相干光源发射的光束的质量的新方法。由于出现强烈的结构性相干影响,在本发明所阐述的意义上,周期衍射元件不适合整形空间相干光场,但由多模光源发射的光场的部分空间相干抑制了这些影响。本发明可以用于在从光源有限距离处(703)或远场中,整形由激光器、发光二极管、或光纤发射的强度分布。本发明在从大功率受激准分子激光器、半导体激光器、谐振腔发光二极管、或激光器或发光二级管阵列发出的光束(702,705)的整形和质量提高方面特别方便。 | ||
申请公布号 | CN1529830A | 申请公布日期 | 2004.09.15 |
申请号 | CN01823484.4 | 申请日期 | 2001.07.16 |
申请人 | 智能控制系统有限公司 | 发明人 | J·图伦恩 |
分类号 | G02B27/09;H01S3/10 | 主分类号 | G02B27/09 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;张志醒 |
主权项 | 1.一种在距离光源有限距离处或在远场中控制空间部分相干光场的强度分布的单元,其特征在于,该单元在垂直于入射光场传播方向的一个或两个方向上是周期性的。 | ||
地址 | 芬兰赫尔辛基 |