发明名称 |
利用聚焦激光辐射在光敏涂敷衬底上制作结构的方法与装置 |
摘要 |
本发明涉及一种通过至少一种调制激光束在平行扫描线中扫描的同时在沿垂直扫描线的方向中的扫描带移动来在光敏表面上写入在输入数据中所描述的图形的方法。此方法的构成包括步骤为将所述输入数据分割为与具有扫描带重叠区的扫描带相对应的部分重叠的扫描带图形数据,提供一个预先确定的沿扫描线的曝光混合函数,所述混合函数开始及终止值为0%和进一步在靠近扫描线中心处为100%,并且利用曝光混合函数和扫描带图形数据的乘积对激光束进行调制。本发明还包括用来根据上述方法写入图形的装置。 |
申请公布号 |
CN1166984C |
申请公布日期 |
2004.09.15 |
申请号 |
CN97181583.6 |
申请日期 |
1997.01.29 |
申请人 |
微激光系统公司 |
发明人 |
托比乔恩·塞得斯多姆;安德斯·图伦 |
分类号 |
G03F1/08;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F1/08 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
1.一种通过至少一种调制激光束在沿平行扫描线扫描的同时又在垂直扫描线的方向沿扫描带移动来在光敏表面上写入在输入数据中所描述的图形的方法,包括的步骤为:将所述输入数据分割为与具有扫描带重叠区的扫描带相对应的部分重叠的扫描带图形数据,提供一个预先确定的沿扫描线的曝光混合函数,所述混合函数开始及终止值为0%和进一步在靠近扫描线中心处为100%,并且利用曝光混合函数和扫描带图形数据的乘积对激光束进行调制。 |
地址 |
瑞典泰比 |