| 主权项 |
1.一种导光板,其包括: 至少一用以接收光之入光面; 一与入光面相交之光出射面; 一与该光出射面相对之底面; 其中,该底面设有沟槽阵列与复数散射点,该沟槽 阵列邻近于该入光面排列。 2.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该沟槽 阵列为半圆柱形、部份椭圆柱形或部份圆锥形。 3.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该沟槽 阵列之半径小于0.1 mm。 4.如申请专利范围第2项所述之导光板,其中该沟槽 阵列之圆弧面具有特定之曲率,其根据光反射定律 以扩散经过每一沟槽之入射光线使其均匀分布。 5.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该复数 散射点可为椭圆球状、圆柱状、正方体或金字塔 形。 6.如申请专利范围第5项所述之导光板,其中该复数 散射点之大小系沿远离入光面之方向递增。 7.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该光出 射面设置复数V型槽或锯齿状凹槽。 8.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该导光 板为平板形或楔形。 9.一种面光源装置,其包括: 一导光板,其包括至少一用以接收光之入光面、一 与入光面相交之光出射面及一与该光出射面相对 之底面;及 至少一设置于对应入光面一侧之光源; 其中,该底面设有沟槽阵列与复数散射点,该沟槽 阵列邻近于该入光面排列。 10.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该沟槽阵列可为半圆柱形、部份椭圆柱形或部份 圆锥形。 11.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该光源为LED或冷阴极萤光灯。 12.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该导光板为平板形或楔形。 13.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该沟槽阵列之半径小于0.1mm。 14.如申请专利范围第10项所述之面光源装置,其中 该沟槽阵列之圆弧面具有特定之曲率,其根据光反 射定律以扩散经过每一沟槽之入射光线使其均匀 分布。 15.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该复数散射点可为椭圆球状、圆柱状、正方体或 金字塔形。 16.如申请专利范围第15项所述之面光源装置,其中 该复数散射点之大小系沿远离入光面之方向递增 。 17.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该光出射面设置复数V型槽或锯齿状凹槽。 18.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该面光源装置进一步包扩一棱镜板,其位于导光板 光出射面处。 19.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该面光源装置进一步包括一扩散板,其位于导光板 光出射面处。 图式简单说明: 第一图系习知技术面光源装置之平面示意图。 第二图系又一习知技术面光源装置之平面示意图 。 第三图系本创作导光板之立体图。 第四图系采用第三图所示导光板之面光源装置之 平面示意图。 第五图系本创作第二实施方式面光源装置之平面 示意图。 第六图系本创作第三实施方式面光源装置之立体 图。 |
