| 发明名称 |
MONOMERES DE RETICULATION POUR PHOTORESIST, ET PROCEDE POUR PREPARER DES POLYMERES DE PHOTORESIST EN UTILISANT CEUX-CI |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2788062(B1) |
申请公布日期 |
2004.09.10 |
| 申请号 |
FR19990016643 |
申请日期 |
1999.12.29 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD |
发明人 |
JUNG JAE CHANG;KONG KEUN KYU;JUNG MIN HO;LEE GEUN SU;BAIK KI HO |
| 分类号 |
G03F7/004;C07C69/54;C08F22/10;C08F220/28;C08F222/06;C08F230/00;G03F7/039;(IPC1-7):C08K5/103 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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