| 摘要 |
Es wird ein kurzes optisches Glas angegeben, das außer Verunreiniggungen kein Silber, Kupfer, Tallium, Blei und Bor enthält und für die Applikationsbereiche Abbildung, Projektion, Telekommunikation, optische Nachrichtentechnik und/oder Lasertechnologie, besonders geeignet auch für Faseranwendungen (Licht- und Bildleiter), einsetzbar ist und vorzugsweise einen Brechwert von 1,55 n¶d¶ 1,65 und einen Abbewert von 48 v¶d¶ 57 aufweist, gute Dämpfungs- und Ionenaustauscheigenschaften, gute chemische Beständigkeit und gute Kristallisationsstabilität. Das Glas weist 35 bis < 50 Gew.-% SiO¶2¶; 1 bis 10 Gew.-% Al¶2¶O¶3¶; 5 bis 15 Gew.-% Na¶2¶O + K¶2¶O + Cs¶2¶O + Li¶2¶O; 20 bis 30 Gew.-% BaO; 0 bis 15 Gew.-% ZnO; 0 bis 10 Gew.-% La¶2¶O¶3¶; 0 bis 10 Gew.-% ZrO¶2¶; 0 bis 6 Gew.-% P¶2¶O¶5¶; 0 bis 8 Gew.-% MgO + CaO + SrO; 0 bis 3 Gew.-% andere Oxide auf, wobei Cs¶2¶O < 1, Li¶2¶O < 1 und TiO¶2¶ < 1 Gew.-% ist. |
