发明名称 |
盘装置和头悬架装置 |
摘要 |
盘装置的头(40)包括一种滑块(42),该滑块包括面向盘面(43),该表面设置成面向记录介质的表面(16),并使其具有能借助于空气流而悬浮在记录介质表面(16)与滑块盘面对的表面(43)之间的形状。滑块的盘面对的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm),头负载L(mN)与记录介质的最低圆周速度A(m/s)具有如下关系:L≥2.74×A+2.7。 |
申请公布号 |
CN1527287A |
申请公布日期 |
2004.09.08 |
申请号 |
CN200410001900.4 |
申请日期 |
2004.01.15 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
吉田和弘;伊藤淳;佐佐木康贵 |
分类号 |
G11B5/60;G11B17/32;G11B21/21 |
主分类号 |
G11B5/60 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王景林 |
主权项 |
1.一种盘装置,其包括:盘形记录介质;驱动部,其支撑记录介质并使记录介质旋转;头,其包括:滑块,其具有盘面对的表面,该盘面对的表面这样定位,以面向记录介质的一个表面,并使其具有这样的形状,该形状能使借助于记录介质旋转生成的空气流悬浮在记录介质表面与滑块盘面对的表面之间;和头部,其安装在滑块上,以执行入和出记录介质的信息记录/信息再现;和头悬架,其支撑头,以可相对于记录介质运动,并对头施加头负载,头负载指向记录介质的表面;其特征在于:滑块的盘面对的表面的尺寸不大于0.935(mm)×0.77(mm),头负载L(mN)与记录介质的最低圆周速度A(m/s)具有如下关系:L≥2.74×A+2.7。 |
地址 |
日本东京都 |