发明名称 |
用于操纵和传送计量光束的器件和方法 |
摘要 |
一种光刻投影装置,配有一种用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束的器件。该器件包括第一和第二光楔,其中第二光楔和第一光楔具有相对于彼此的相对位置。至少一部分计量光束沿入射光轴在第一光楔的第一主要表面处进入该器件,穿过第一和第二光楔,并在第二光楔的第二主要表面处射出。第一和第二光楔安排为通过改变第一和第二光楔的相对位置使至少一部分计量光束相对于入射光轴旋转如/或平移。 |
申请公布号 |
CN1527140A |
申请公布日期 |
2004.09.08 |
申请号 |
CN200410008016.3 |
申请日期 |
2004.03.05 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
E·A·F·范德帕斯奇;M·H·M·比姆斯;E·J·M·尤森;E·J·J·克里滕特 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
肖春京;郑建晖 |
主权项 |
1.一种光刻投影装置(1),其特征在于,所述装置包括用于操纵和传送至少一部分辐射的计量光束(MB)的器件(100),所述器件(100)包括第一光楔(2)和第二光楔(3),所述第二光楔(3)和所述第一光楔(2)具有相对于彼此的相对位置,所述至少一部分计量光束(MB)沿入射光轴(OA)在所述第一光楔(2)的第一主要表面(2a)处进入所述器件(100),穿过所述第一(2)和第二光楔(3),并在所述第二光楔(3)的第二主要表面(3a)处射出,第一和第二光楔(2,3)设置为通过改变所述第一和所述第二光楔(2,3)的所述相对位置使所述至少一部分计量光束(MB)相对于所述入射光轴(OA)旋转和/或平移。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |