| 发明名称 | 四氟硅烷的制备和用途 | ||
| 摘要 | 通过包括如下步骤的方法制备了四氟硅烷：加热六氟硅酸盐的步骤(1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2－1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2－2)或将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2－1)和将步骤(2－1)中产生的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2－3)。此外，还分析了高纯度四氟硅烷中的杂质。 | ||
| 申请公布号 | CN1527796A | 申请公布日期 | 2004.09.08 |
| 申请号 | CN02813984.4 | 申请日期 | 2002.07.11 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 跡辺仁志;冈正和;金子虎一 |
| 分类号 | C01B33/107;B01D53/22;H01L31/20;H01L21/205;C03B37/00;G01N30/14 | 主分类号 | C01B33/107 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;黄革生 |
| 主权项 | 1、一种制备四氟硅烷的方法，该方法包括加热六氟硅酸盐的步骤(1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2-1)、将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2-2)，或将步骤(1)中产生的含六氟二硅氧烷的四氟硅烷气体与氟气反应的步骤(2-1)和将步骤(2-1)中产生的四氟硅烷气体与高价金属氟化物反应的步骤(2-3)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||