发明名称 |
功能性薄膜、功能性基板、及氧化钛薄膜的制造方法 |
摘要 |
本发明提供具有高耐久性、光催化功能的氧化钛薄膜。在屏障薄膜12表面上以点状使氧化钛薄膜31存在,在其间形成亲水性薄膜41,进而构成功能性薄膜3。在其表面上因混杂着氧化钛薄膜露出的部分和亲水性薄膜露出的部分,所以可获得两种薄膜的功能。在紫外线照射环境下具有自清洗效果和超亲水性,即使暗处,也有某种程度的亲水性。用加氧气的溅射气体使氧化钛靶子进行溅射,因能补充形成氧化钛薄膜中的缺损氧,故能形成有光催化功能的氧化钛薄膜31。 |
申请公布号 |
CN1165366C |
申请公布日期 |
2004.09.08 |
申请号 |
CN00101041.7 |
申请日期 |
2000.01.11 |
申请人 |
株式会社爱发科 |
发明人 |
根岸敏夫;平岩秀行;牧元贵彦 |
分类号 |
B01D53/86;C03C17/34;B01J35/02;C23C14/08 |
主分类号 |
B01D53/86 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
邰红;杨丽琴 |
主权项 |
1.一种功能性薄膜的制备方法,该功能性薄膜具有亲水性薄膜和氧化钛薄膜,其特征在于,上述氧化钛薄膜通过溅射法形成,在上述功能性薄膜的表面上微小区域内混杂存在着前述亲水性薄膜露出的部分和前述氧化钛薄膜露出的部分,其中,真空环境中,溅射气体中作为含氧气体含有氧气、臭氧气或二氧化氮气中的任何1种或2种以上的气体,并且在上述溅射气体中上述含氧气体的比率在10体积%以上。 |
地址 |
日本神奈川县 |