| 发明名称 |
光阻涂覆方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种光阻涂覆方法，其包括以下步骤：在基板表面刻划多条沟槽；利用喷嘴将光阻喷射至基板上；水平震动基板。本发明的方法可在保证一定涂覆均匀度的同时，获得较高的光阻使用率。 |
| 申请公布号 |
CN1526482A |
申请公布日期 |
2004.09.08 |
| 申请号 |
CN03113899.3 |
申请日期 |
2003.03.08 |
| 申请人 |
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
发明人 |
陈永昌;彭家鹏;赖建廷 |
| 分类号 |
B05D1/02;B05D3/12;B05C11/08;G03F7/16 |
主分类号 |
B05D1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
1.一种光阻涂覆方法，其包括以下步骤：在基板表面上刻划多条沟槽；利用喷嘴将光阻喷射至基板上；水平震动基板。 |
| 地址 |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |
