| 发明名称 | 掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法 | ||
| 摘要 | 提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明的掩膜：具备形成了开口的基体材料；形成有多个贯通孔，同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件；和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。 | ||
| 申请公布号 | CN1526850A | 申请公布日期 | 2004.09.08 |
| 申请号 | CN200410007838.X | 申请日期 | 2004.03.04 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 中楯真 |
| 分类号 | C23C14/04;C23C14/24;H05B33/10 | 主分类号 | C23C14/04 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种掩膜，其中，具备：形成了开口的基体材料；形成多个贯通孔，同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件；和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||