光致抗蚀剂组合物

摘要

本发明提供一种适宜在短波长包括亚－300nm和亚－200nm例如193nm和157nm成像的新型光致抗蚀剂。本发明的光致抗蚀剂包含具有光酸不稳定基团的树脂、一种或多种感光酸生成剂化合物和一种增粘添加剂化合物。本发明的光致抗蚀剂表现出与SiON和其它无机表面层有效的粘附性。

主权项

1.一种微电子器件基底，它包括氧氮化硅层，覆盖氧氮化硅层的光致抗蚀剂组合物涂层，其中该光致抗蚀剂组合物包含光酸不稳定聚合物、感光酸生成剂化合物和增粘组分。