发明名称 |
一种光刻投影装置及其器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开一种光刻投影装置及其器件制造方法。在投影系统中,照射光网上的图案面,形成聚焦在像平面上的投影图像。光路中存在薄膜使得光网上图案面的位置产生虚拟偏移。根据是否存在薄膜,对投影图像的像平面调整以正确聚焦。补偿器通过改变图案面的位置来抵消由薄膜引起的图案面的虚拟偏移。 |
申请公布号 |
CN1527138A |
申请公布日期 |
2004.09.08 |
申请号 |
CN200310122074.4 |
申请日期 |
2003.12.22 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
A·J·M·詹森;M·K·M·巴根;J·C·M·贾斯佩;R·L·J·施里维;R·J·布鲁尔斯;J·J·M·巴塞曼斯;W·R·庞格斯;T·尤特迪克 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
章社杲 |
主权项 |
1.一种光刻投影装置,包括:光网平台单元,包括用来支承形成图案机构的支承结构,和短行程单元,用来细调所述支承结构的位置;所述形成图案机构可根据要求的图案使所述投影光束形成图案;基片台,用来固定基片;和投影系统,用来将带图案的光束投影到所述基片的目标部分,所述投影系统具有光轴;其特征在于,所述光刻投影装置还包括补偿器,用来沿所述光轴改变所述光网平台单元的一部分的位置以补偿由所述形成图案机构中薄膜引起的所述形成图案机构的图案面的虚拟偏移,所述光网平台单元的一部分至少包括所述短行程单元和所述支承结构。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |