氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法

摘要

本发明涉及氧化铈研磨剂及基板的研磨方法，提供了一种能够在不划伤SiO₂绝缘膜等被研磨面的高研磨速度下进行研磨的氧化铈研磨剂。本发明的研磨剂含有把氧化铈颗粒分散于介质中的浆料，其中该氧化铈颗粒的一次颗粒粒径为10～600纳米，一次颗粒粒径值为30～250纳米，颗粒粒径值为150～600纳米，颗粒最大粒径在3000纳米以下。

主权项

1.一种氧化铈研磨剂，含有把氧化铈颗粒分散在介质中的浆料，该氧化铈颗粒通过粉末X射线Rietvelt法以RIETAN-94分析测定的表示各向同性的微小形变的结构参数Y值在0.01～0.70，其中所述氧化铈颗粒粒径中央值为150～600纳米。