| 摘要 |
本发明，系有关一种臭氧处理装置，其能将含有臭氧之处理气体均匀地供应于基板表面，以均匀且有效率地处理基板，该臭氧处理装置1，系具备：用以载置基板K之载置台20；加热基板K之加热器；处理气体供应头30，其于载置台20之上方配设成与载置台20上之基板对向，用以向基板K送出含有臭氧之处理气体；及用以对处理气体供应头30供应处理气体的气体供应装置53。处理气体供应头30，系由框体状构件37构成，该框体状构件37又具有于基板K之对向下面开口之既定内容积之气体滞留室45，并且开口部，被板状通气性构件40封闭，该通气性构件40于全域具有复数个贯穿表里之通气路，从气体供应装置53供应之处理气体，则填充于气体滞留室45，通过通气性构件37之各通气路而送出。 |
