基板处理装置

摘要

本发明之基板处理装置，以安定且有效率地进行被处理基板W之成膜处理为目的，基板处理装置，系于与加热部相对之位置处支持被处理基板W，并使保持被处理基板W之保持构件旋转。另外，加热部系在透明石英制之石英钟罩内部收容SiC加热器与热反射构件，于减压处理容器内部的同时亦减压石英钟罩内部，而可使石英钟罩之厚度变薄，因而能提高来自SiC加热器之热传导效率，且亦可防止因SiC加热器所造成之污染。