发明名称 硼掺杂钻石
摘要 一种藉由化学气相沉积法(CVD)制成之单晶硼搀杂钻石层体,其具有均一之硼搀杂浓度。该层体是形成自一个单一长晶槽,或具有一超过100μm之厚度,或具有一超过1mm^3之体积,或具有由此等特性所构成之组合。
申请公布号 TW200416197 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092103942 申请日期 2003.02.25
申请人 六元件有限公司 发明人 葛佛理 A. 史卡斯布鲁克;菲利普 M. 马汀尼伍;丹尼尔 J. 特威夏恩;安德烈 J. 怀特希德;麦克 A. 库帕;巴贝尔 S. C. 朶恩
分类号 C01B31/06 主分类号 C01B31/06
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 曼岛