曝光方法、曝光装置及元件制造方法

摘要

透过投影光学系统使基板P曝光时，于投影光学系统与基板p之间供应液体50，透过投影光学系统PL与液体来使基板P上之图案形成区域AR1曝光，不透过液体，而透过投影光学系统PL2来使基板P上之边缘区域AR2曝光。可抑制液体流出至基板外侧，同时实现焦深广的曝光。