曝光装置及元件制造方法

摘要

本发明系提供一种在投影光学系统与基板之间充满液体进行曝光时，能抑制因附着在基板之液体而导致元件恶化的曝光装置。元件制造系统SYS，具备：以液体50充满投影光学系统PL与基板P之间、透过投影光学系统PL与液体50将图案像投影至基板P上的曝光装置本体EX，曝光装置本体EX与涂布显影装置C／D(进行基板P之曝光后处理)间的介面部IF，以及在基板P之曝光后透过介面部IF将基板P搬出涂布显影装置C／D之前、除去附着在基板P之液体50的液体除去装置100。