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发明名称
场效应电晶体结构,其半导体-记忆体胞元以及其制造方法
摘要
本发明有关一场–效应电晶体结构,一相关半导体记忆体胞元以及相关制造方法,在其中为了一二极体(D)、一二极体掺杂区域(4)在半导体基材(1)中被加以形成,其中该半导体基材具有一场–效应电晶体结构(SD,3,K)以及一电性地传导的二极体连接层(5)连接该场–效应电晶体结构之一控制层(3)至该二极体掺杂区域(4)。利用这种方式,有可能耗尽过量在半导体基材(1)中的电荷载体(L),因而防止一种非所欲的主体效应。
申请公布号
TW200417030
申请公布日期
2004.09.01
申请号
TW092129832
申请日期
2003.10.27
申请人
亿恒科技股份公司
发明人
马蒂雅斯希尔勒曼;鲁道夫史特拉塞尔
分类号
H01L29/78
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
蔡清福
主权项
地址
德国
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