发明名称 场效应电晶体结构,其半导体-记忆体胞元以及其制造方法
摘要 本发明有关一场–效应电晶体结构,一相关半导体记忆体胞元以及相关制造方法,在其中为了一二极体(D)、一二极体掺杂区域(4)在半导体基材(1)中被加以形成,其中该半导体基材具有一场–效应电晶体结构(SD,3,K)以及一电性地传导的二极体连接层(5)连接该场–效应电晶体结构之一控制层(3)至该二极体掺杂区域(4)。利用这种方式,有可能耗尽过量在半导体基材(1)中的电荷载体(L),因而防止一种非所欲的主体效应。
申请公布号 TW200417030 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092129832 申请日期 2003.10.27
申请人 亿恒科技股份公司 发明人 马蒂雅斯希尔勒曼;鲁道夫史特拉塞尔
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 德国