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发明名称
近接曝光的对位方法及对位装置
摘要
本发明是关于一种近接于第二对象物而配置第一对象物,且将第二对象物上的图案使用电子线转印在第一对象物上的近接曝光的对位方法。在将光线透过在至少一部分的领域所区划的标记支持部形成第一参照标记的第一参照光罩,与形成第一对准标记的第一对象物配置于第一工作台。使用配置于第一工作台的第一对准感测器,经由透过被区划在标记支持部的光线的领域,同时地检测形成在被配置于相对向地被设在第一工作台的第二工作台的第二对象物的第二对准标记与第一参照标记。由此,可容易地进行第二对象物与第一对象物的对位。
申请公布号
TW200416849
申请公布日期
2004.09.01
申请号
TW092128608
申请日期
2003.10.15
申请人
住友重机械工业股份有限公司
发明人
宫武勤
分类号
H01L21/30
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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