半导体制程设备之清洁方法

摘要

本发明系一种半导体制程设备之清洁方法，其中主要系以高纯度之液态化学品取代传统之导通气体清除方法，进行半导体制程设备或管线之清除方式，选用之液态化学品须具有高纯度、高挥发性，并可与半导体制程中操作使用之原物料具有极佳互溶性之性质，藉此，可将管线清洁程度提升，同时亦将清洁过程所需的时间大量缩短，以增加半导体制程之产质及产量。