发明名称 |
金属氧化膜之形成方法、及该方法所使用之微波电源装置 |
摘要 |
本发明之利用电浆CVD法来形成金属氧化膜之方法,系藉由低输出区域之辉光放电,进行以有机金属为主体之反应后,藉由高输出区域之辉光放电,进行有机金属与氧化性气体之反应,藉此,在塑胶基体表面,透过有机性层形成金属氧化膜。依此方法,可在塑胶等基体之表面,利用电浆CVD法形成密合性及柔软性、可挠性优异之薄膜。 |
申请公布号 |
TW200416295 |
申请公布日期 |
2004.09.01 |
申请号 |
TW092128060 |
申请日期 |
2003.10.09 |
申请人 |
东洋制罐股份有限公司 |
发明人 |
并木恒久;家木敏秀;仓岛秀夫;稻垣肇;小林亮;山田幸司 |
分类号 |
C23C16/40;B32B9/00 |
主分类号 |
C23C16/40 |
代理机构 |
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代理人 |
林镒珠 |
主权项 |
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地址 |
日本 |