发明名称 金属氧化膜之形成方法、及该方法所使用之微波电源装置
摘要 本发明之利用电浆CVD法来形成金属氧化膜之方法,系藉由低输出区域之辉光放电,进行以有机金属为主体之反应后,藉由高输出区域之辉光放电,进行有机金属与氧化性气体之反应,藉此,在塑胶基体表面,透过有机性层形成金属氧化膜。依此方法,可在塑胶等基体之表面,利用电浆CVD法形成密合性及柔软性、可挠性优异之薄膜。
申请公布号 TW200416295 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092128060 申请日期 2003.10.09
申请人 东洋制罐股份有限公司 发明人 并木恒久;家木敏秀;仓岛秀夫;稻垣肇;小林亮;山田幸司
分类号 C23C16/40;B32B9/00 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本