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发明名称
化学机械研磨辅助之剥离式微图案
摘要
一种微电子装置之方法及结构;微电子装置包含一第一薄膜于一基材上、一第一抗研磨层于第一薄膜上、一第二薄膜于第一抗研磨层上、一第二抗研磨层于第二薄膜上,其中此第一和第二抗研磨层包含类钻碳。此第一薄膜包含一电阻性材料,而第二薄膜包含低阻抗传导材料。此第一薄膜系为一电阻,且具体实施为一磁性读取感测器。电阻性材料对于磁场是敏感的。此装置进一步包含一大体上为垂直的接合处,介于第一与第二薄膜间,且一介电薄膜邻接电阻性材料。
申请公布号
TW200416823
申请公布日期
2004.09.01
申请号
TW092132265
申请日期
2003.11.18
申请人
国际商业机器股份有限公司
发明人
玛喜克蕾 居西欧;弗瑞德利克H 帝欧;黄成业;黎瑞龙
分类号
H01L21/027;H01L21/304
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
蔡玉玲
主权项
地址
美国
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