发明名称 半导体鳍式元件的接触窗及其制造方法
摘要 一种半导体鳍式元件的接触窗(Fin DeviceContact)及其制造方法,此半导体鳍式元件的接触窗位于半导体鳍的上表面、两侧壁表面及/或至少一端表面上,而与半导体鳍式元件的源极/漏极之间具有相当大的接触面积。
申请公布号 CN1525530A 申请公布日期 2004.09.01
申请号 CN200410007241.5 申请日期 2004.02.27
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 杨育佳;杨富量;胡正明
分类号 H01L21/00;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234 主分类号 H01L21/00
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 王铮
主权项 1.一种半导体鳍式元件的接触窗的制造方法,至少包含:提供一半导体鳍,其中该半导体鳍至少包括一上表面、两个侧壁表面以及至少一末端表面;形成一蚀刻终止层位于该半导体鳍上;形成一保护层覆盖在该蚀刻终止层上;形成一接触洞位于部分的该保护层中,并暴露出该半导体鳍上部分的该蚀刻终止层;移除暴露的该蚀刻终止层;以及于该接触洞中填入一导电材料。
地址 中国台湾