发明名称 |
半导体鳍式元件的接触窗及其制造方法 |
摘要 |
一种半导体鳍式元件的接触窗(Fin DeviceContact)及其制造方法,此半导体鳍式元件的接触窗位于半导体鳍的上表面、两侧壁表面及/或至少一端表面上,而与半导体鳍式元件的源极/漏极之间具有相当大的接触面积。 |
申请公布号 |
CN1525530A |
申请公布日期 |
2004.09.01 |
申请号 |
CN200410007241.5 |
申请日期 |
2004.02.27 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
杨育佳;杨富量;胡正明 |
分类号 |
H01L21/00;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王铮 |
主权项 |
1.一种半导体鳍式元件的接触窗的制造方法,至少包含:提供一半导体鳍,其中该半导体鳍至少包括一上表面、两个侧壁表面以及至少一末端表面;形成一蚀刻终止层位于该半导体鳍上;形成一保护层覆盖在该蚀刻终止层上;形成一接触洞位于部分的该保护层中,并暴露出该半导体鳍上部分的该蚀刻终止层;移除暴露的该蚀刻终止层;以及于该接触洞中填入一导电材料。 |
地址 |
中国台湾 |