发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR
摘要
申请公布号 EP1451387(A1) 申请公布日期 2004.09.01
申请号 EP20020789987 申请日期 2002.12.04
申请人 PRIMAXX, INC. 发明人 GRANT, ROBERT, W.;PETRONE, BENJAMIN, J.;BRUBAKER, MATTHEW, D.;MUMBAUER, PAUL, D.
分类号 C23C16/44;C23C16/455;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/455 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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