发明名称 | 使用浮球研磨抛光回转体零件的方法及其装置 | ||
摘要 | 使用浮球研磨抛光回转体零件的方法,是在具有盖板的容器中,置入液体和浮球,调节盖板的高度,使浮球全部浸入液体中,并使浮球与零件表面的接触压力改变,从而控制研磨抛光零件的速度;零件固定在转轴上并没入浮球环境中,以浮球作研磨抛光材料,通过转动轴使零件旋转,零件表面和浮球表面相互摩擦实现研磨和抛光。其装置由开口容器、固定零件的转轴、高度可调的盖板和浮球组成,固定零件的转轴和高度可调盖板设在开口容器的上方,容器内盛有液体和附着磨料或抛光料的浮球,转轴由电机带动。本发明具有设备结构简单,投资成本和加工费用比精密磨床加工低,研磨抛光不需要靠模,研磨抛光速度、压力调节方便等优点。 | ||
申请公布号 | CN1524660A | 申请公布日期 | 2004.09.01 |
申请号 | CN03117370.5 | 申请日期 | 2003.02.26 |
申请人 | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 | 发明人 | 王业明;罗康俊;胡晓东;余波;方针 |
分类号 | B24B1/00 | 主分类号 | B24B1/00 |
代理机构 | 重庆创新专利事务所有限公司 | 代理人 | 张先芸 |
主权项 | 1、使用浮球研磨抛光回转体零件的方法,其特征在于:在具有可调节高度盖板的容器中,置入液体和浮球;调节盖板的高度,使浮球全部浸入液体中;零件固定在转轴上并没入浮球环境中,以浮球作研磨抛光材料,通过转动转轴使零件旋转,零件表面和浮球表面相互摩擦实现研磨和抛光。 | ||
地址 | 重庆市南坪花园路14号 |