发明名称 |
PROCESO DE MICROENCAPSULACION Y DE TRATAMIENTO ELECTROSTATICO. |
摘要 |
Procedimiento para la preparación de microcápsulas que comprende las etapas siguientes: formulación de una solución primaria; formular una solución secundaria; añadir dicha solución primaria a una primera cámara; añadir dicha solución secundaria a una segunda cámara adyacente a dicha primera cámara y separada de dicha primera cámara por una barrera porosa de manera que dicha segunda solución forma una interfase con dicha solución primaria en dicha barrera porosa, y mover dicha interfase alejándola de dicha barrera porosa; y permitir la formación de las microcápsulas bajo condiciones de reposo de baja fricción; y aislar dichas microcápsulas mediante filtración a través de una barrera porosa, en el que las condiciones de baja fricción se definen como fuerzas de fricción fluida menores de 10 N/m2 (100 dinas/cm2). |
申请公布号 |
ES2214028(T3) |
申请公布日期 |
2004.09.01 |
申请号 |
ES19990923047T |
申请日期 |
1999.05.14 |
申请人 |
NASA/JOHNSON SPACE CENTER |
发明人 |
MORRISON, DENNIS, R.;MOSIER, BENJAMIN |
分类号 |
A61K9/127;A61K9/50;A61K9/52;A61K41/00;B01J13/06;(IPC1-7):B01J13/06 |
主分类号 |
A61K9/127 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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