| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING ENHANCED SILICON LAYER STRUCTURE FOR PREVENTING DIFFUSION OF DOPANTS AND IMPROVING CAPACITANCE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100448238(B1) |
申请公布日期 |
2004.09.01 |
| 申请号 |
KR19970029064 |
申请日期 |
1997.06.30 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
HONG, BYEONG SEOP;JUNG, YEONG SEOK |
| 分类号 |
H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108 |
主分类号 |
H01L27/108 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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