Formulação sólida de proteção de cultura, formulação de dispersão, processo para a preparação das mesmas, copolìmero de radical aleatório, processo para o controle do crescimento indesejável de plantas, e, uso das formulações de proteção de cultura

摘要

"FORMULAçãO SóLIDA DE PROTEçãO DE CULTURA, FORMULAçãO DE DISPERSãO, PROCESSO PARA A PREPARAçãO DAS MESMAS, COPOLìMERO DE RADICAL ALEATóRIO, PROCESSO PARA O CONTROLE DO CRESCIMENTO INDESEJáVEL DE PLANTAS, E, USO DAS FORMULAçõES DE PROTEçãO DE CULTURA". A invenção refere-se a uma formulação sólida de proteção de cultura compreendendo a) cinidon-etila como um agente de proteção de cultura; b) pelo menos um copolímero de radical aleatório compreendendo como unidades polimerizadas pelo menos um monómero hidrofílico e pelo menos um hidrofóbico; e c) opcionalmente outros aditivos, onde pelo menos 50% das partículas dispersas de cinidon-etila na referida formulação sólida de proteção de cultura estão em um estado amorfo de raios X e uma formulação de dispersão aquosa do mesmo. Adicionalmente, a invenção refere-se a processos para a preparação das referidas formulações e ao uso das referidas formulações em agricultura. Além disso, a invenção refere-se a um copolímero de radical aleatório consistindo essencialmente, como unidades polimerizadas de: a) 5 a 95% em peso de estireno como o componente A; b) 5 a 95% em peso de DMAPMAM (amida dimetilaminopropil metacrílica) como o componente B; c) 0 a 98% em peso de acrilato de metila e/ou acetato de vinila como o componente C.