发明名称 |
Intra-cell mask alignment for improved overlay |
摘要 |
A method for intra-cell alignment of a substrate and mask comprises providing a substrate comprising an exposed photosensitive material, providing a phase-shift mask, and aligning the phase-shift mask to an intra-cell structure on the substrate.
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申请公布号 |
US6784070(B2) |
申请公布日期 |
2004.08.31 |
申请号 |
US20020309291 |
申请日期 |
2002.12.03 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
CARPI ENIO L.;LIEGL BERNHARD |
分类号 |
G03F9/00;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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