| 发明名称 |
A SALICIDE METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING SILICON/AMORPHOUS SILICON/METAL STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG105567(A1) |
申请公布日期 |
2004.08.27 |
| 申请号 |
SG20030000039 |
申请日期 |
2003.01.07 |
| 申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD. |
发明人 |
YUNG FU CHONG;RANDALL CHER LIANG CHA;KIN LEONG PEY |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/285;H01L21/321;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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