用于深紫外光刻术的光刻胶组合物

摘要

本发明涉及在深紫外区域敏感的新颖光刻胶组合物和加工光刻胶组合物的方法，其中光刻胶包括新颖的共聚物，光活性组分和溶剂。新颖的聚合物包括衍生自烯属不饱和化合物的单元和衍生自不饱和环状非芳族化合物的单元，该烯属不饱和化合物包含至少一个氰基官能度。

主权项

1.一种光刻胶组合物，包括共聚物，光活性组分，和溶剂，其中共聚物包括至少一个结构1的烯属单元，该烯属单元包含至少一个氰基官能度，和至少一个结构2的环状单元，其中结构1是其中R₁-R₄独立地是氢、烷基、O-烷基、烷基酯、全氟烷基酯、羧酸、烷基羰基、羧酸酯、氰基(CN)、氟烷基、酸或碱不稳定基团、烷基磺酰基、磺酸酯、磺酰胺、烷基磺酰胺，条件是R₁-R₄至少一个包含氰基官能度，和其中结构2是其中R₅-R₁₄独立地是氢、(C₁-C₆)烷基、卤素、羧酸、(C₁-C₁₀)烷基OCO烷基、氰基(CN)、(C₁-C₁₀)仲或叔羧酸酯、取代频哪醇，R₇和R₈可以连接以形成环状非芳族结构、氟烷基、W(CF₃)₂OH，其中W是(C₁-C₆)烷基或(C₁-C₆)烷基醚、或酸或碱不稳定基团，R₁₅和R₁₆是氢或(C₁-C₄)烷基，和m是0-3。