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发明名称
PROCEDIMENTO DI FORMAZIONE DI UNA STRUTTURA DI CONTATTO AUTOALLINEATA USANDO UNO STRATO DI MASCHERA SACRIFICALE
摘要
申请公布号
ITMI20041048(A1)
申请公布日期
2004.08.25
申请号
IT2004MI01048
申请日期
2004.05.25
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
CHUNG TAE-YOUNG;YUN CHEOL-JU
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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