掩模图形产生方法及掩模图形产生装置

摘要

本发明建立了一种用于减少掩模CAD处理的工作量并确保OPC处理中定义的最小尺寸的掩模图形校正技术。本发明的方法包括以下步骤：测量掩模图形的线宽；提取掩模图形的线宽小于预定尺寸的边缘；产生相对于线宽小于预定尺寸的边缘之间的中心具有预定宽度的中心几何对象；以及用中心几何对象代替掩模图形的线宽小于预定尺寸的部分。由此将掩模图形的线宽改变成中心几何对象的预定尺寸的宽度。这显著地减少了现有技术中基于校正表对尺寸的每个值进行几何对象计算的步骤的数量，由此缩短了掩模CAD处理时间。

主权项

1.一种借助晶片工艺中的投影光学系统在晶片上形成所需掩模图形的掩模图形产生方法，包括以下步骤：测量掩模图形的线宽；产生相对于掩模图形的线宽边缘之间的中心具有预定宽度的中心几何对象；以及使用中心几何对象使掩模图形变形。