| 发明名称 | 使用单一光罩于多重蚀刻步骤的微影制程 | ||
| 摘要 | 本发明主要是提供一光学微影制程中，其中光阻在曝光后先经过烘烤才进行显影，使得光阻的转移图案的周围会产生光阻残留物。由于光阻残留物的厚度较光阻层的厚度为低，这种显影后的光阻可以提供多重次蚀刻制程的遮罩。 | ||
| 申请公布号 | CN1523638A | 申请公布日期 | 2004.08.25 |
| 申请号 | CN03106121.4 | 申请日期 | 2003.02.18 |
| 申请人 | 中华映管股份有限公司 | 发明人 | 刘大有;高金字;张瑞宗;许翼材 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 1.一种使用单一光罩用于多重蚀刻的微影制程，其特征在于，包含：提供一底材以及一光阻层位于该底材上；以一光罩对该光阻层曝光；烘烤该光阻层；以及对该光阻层进行显影以形成一多重蚀刻的遮罩。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市 | ||