发明名称 APPARATUS AND PROCESS FOR THE ABATEMENT OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EFFLUENTS CONTAINING FLUORINE GAS
摘要
申请公布号 EP1274499(A4) 申请公布日期 2004.08.25
申请号 EP20010930461 申请日期 2001.04.09
申请人 发明人
分类号 B01D53/34;B01D53/68;C23F4/00;(IPC1-7):B01D53/34;B01D53/70;B01D53/14;B01D53/86 主分类号 B01D53/34
代理机构 代理人
主权项
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