| 发明名称 |
ABGLEICHVERFAHREN UND ABGLEICHEINRICHTUNG FÜR PLL-SCHALTUNG ZUR ZWEI-PUNKT-MODULATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE50200630(D1) |
申请公布日期 |
2004.08.19 |
| 申请号 |
DE20025000630 |
申请日期 |
2002.02.20 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HAMMES, MARKUS;VAN WAASEN, STEFAN |
| 分类号 |
H03C3/09;(IPC1-7):H03C3/09 |
主分类号 |
H03C3/09 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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