发明名称 薄壁构件的成形方法
摘要 本发明涉及薄壁构件成形方法,对该构件进行注射成形、在模具开启动作中、直至开启达到薄壁构件变形成为容许量的程度、为用空气流使薄壁构件从固定侧金属模剥离、用低速进行模具开启或使模具开启暂时停止;或通过在使薄壁构件伸出时、直至薄壁构件伸出量达到薄壁构件的变形成为容许量的程度、为用空气流使薄壁构件从可动侧金属模剥离用低速进行伸出动作或使伸出动作暂时停止,具有能用强空气流促进在模具开启时的冷却与从金属模的剥离以及无障碍地缩短成形周期等效果。
申请公布号 CN1162855C 申请公布日期 2004.08.18
申请号 CN97123164.8 申请日期 1997.11.20
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 角陆晋二;丸山义雄;东田隆亮;油谷博;松村圭三
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 王树俦
主权项 1.薄壁构件的成形方法,对光盘基极类薄壁构件进行注射成形、在完成成形工序后、开启金属模时、在固定板一侧的金属模与薄壁构件的成形平面间进行空气流动的同时,其特征在于,在金属模的开启量达到基板的变形成为容许量的程度时使金属模开启暂时停止、在用空气流使薄壁构件的整个成形平面已从固定侧金属模剥离的时刻以后进行所述金属模的再开启。
地址 日本国大阪府