| 发明名称 | 头孢烯类化合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及式[I]化合物或其药学上可接受的盐，其中A为低级亚烷基或低级亚链烯基；R<SUP>1</SUP>为低级烷基、羟基(低级)烷基、受保护的羟基(低级)烷基、氨基(低级)烷基或受保护的氨基(低级)烷基，且R<SUP>2</SUP>为氢或氨基保护基团，或者R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>结合在一起构成低级亚烷基；R<SUP>3</SUP>和R<SUP>5</SUP>独立为氨基或受保护的氨基；R<SUP>4</SUP>为羧基或受保护的羧基，涉及制备式[I]化合物的方法以及包含式[I]化合物和药学上可接受的载体的药用组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1522259A | 申请公布日期 | 2004.08.18 |
| 申请号 | CN02813170.3 | 申请日期 | 2002.04.24 |
| 申请人 | 藤泽药品工业株式会社;湧永制药株式会社 | 发明人 | 大木秀德;奥田真也;山中敏夫;荻野隆;川端浩二;井上敏;三隅启司;伊藤健治;赤松久;佐藤贤治 |
| 分类号 | C07D501/46;A61K31/545 | 主分类号 | C07D501/46 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 马崇德 |
| 主权项 | 1.一种下式化合物或其药学上可接受的盐：<img file="A028131700002C1.GIF" wi="1580" he="567" />其中A为低级亚烷基或低级亚链烯基；R<sup>1</sup>为低级烷基、羟基(低级)烷基、受保护的羟基(低级)烷基、氨基(低级)烷基或受保护的氨基(低级)烷基，且R<sup>2</sup>为氢或氨基保护基团，或者R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>结合在一起构成低级亚烷基；R<sup>3</sup>和R<sup>5</sup>独立为氨基或受保护的氨基；R<sup>4</sup>为羧基或受保护的羧基。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||