发明名称 Vorrichtung zum Erzeugen eines breiten Aktivgasstrahls auf Basis eines Gasentladungsplasmas
摘要 Vorrichtung zum Erzeugen eines breiten Aktivgasstrahls auf Basis eines Gasentladungsplasmas mit einer Vielzahl von Gasentladungskammern, insbesondere zur Aktivierung und/oder Reinigung von Oberflächen verschiedenster Materialarten. Die Aufgabe, eine neue Möglichkeit zur Erzeugung eines breiten Aktivgasstrahles zu finden, die eine gleichzeitige und möglichst gleichmäßige Behandlung großer Oberflächenbereiche gestattet, ohne dass Lebensdauer und Leistungsfähigkeit des Aktivgasgenerators gegenüber einer herkömmlichen Einzelvorrichtung vermindert sind, wird erfindungsgemäß gelöst, indem Entladungskammern (12) nebeneinander aufgereiht in einem kompakten linearen Block (1) aus elektrisch leitenden Material eingebracht werden und mit derart kleinem Kammerdurchmesser (D) ausgeführt sind, dass die Aktivgasstrahlen (21) in Richtung des linearen Blockes (1) beim Auftreffen auf der Materialoberfläche (2) einander überschneidende Strahldurchmesser (E) aufweisen, die Zentralelektroden (3) jeweils einen so geringen Elektrodendurchmesser aufweisen, dass innerhalb des ummantelnden Isolatorröhrchens (4) ein schmaler Zusatzgaskanal (52) zur Verfügung steht, der die Gasentladung wesentlich stärker in Richtung der Ausgangsdüse (13) der Entladungskammer (12) konzentriert, und ein Isolatorblock (5) zur Zuleitung der Hochspannungsanschlüsse (31), eines Erdungsanschlusses (11) für den linearen Block (1) sowie zur Prozessgaszuführung (51) vorhanden ist.
申请公布号 DE10303402(A1) 申请公布日期 2004.08.12
申请号 DE20031003402 申请日期 2003.01.24
申请人 PVA TEPLA AG 发明人 KONAVKO, RUDOLPH;GOLOVIATINSKII, SERGUEI;KONAVKO, ARKADY;SCHMID, HERMANN
分类号 H05H1/44;(IPC1-7):H05H1/26 主分类号 H05H1/44
代理机构 代理人
主权项
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