| 发明名称 | 清洗电子元件的方法 | ||
| 摘要 | 为了提供一种能够去除电子元件表面上的金属、有机物和细小颗粒污物，尤其是硅基底上的污物，并且在清洗过程中抑制基底表面粗糙度以原子量级增大。一种清洗电子元件的方法，其是用氧化清洗液清洗，之后用还原清洗液清洗并施加超声振动。 | ||
| 申请公布号 | CN1161825C | 申请公布日期 | 2004.08.11 |
| 申请号 | CN00100891.9 | 申请日期 | 2000.02.14 |
| 申请人 | 栗田工业株式会社 | 发明人 | 森田博志;井田纯一 |
| 分类号 | H01L21/302;B08B3/04;C23F4/00 | 主分类号 | H01L21/302 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种清洗裸硅基底的方法，其特征在于用氧化清洗液清洗之后，在使裸硅基底经受超声振动的同时用还原清洗液清洗。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||