| 发明名称 | 其电极具有大量均匀边沿的等离子聚合设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1161821C | 申请公布日期 | 2004.08.11 |
| 申请号 | CN00801762.X | 申请日期 | 2000.08.14 |
| 申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 郑永万;李守源;尹东植;河三喆 |
| 分类号 | H01L21/205;H01L21/302;C23C16/32 | 主分类号 | H01L21/205 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余朦;李辉 |
| 主权项 | 1.一种等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿，以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高电压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空状态，其中，放电电极是由高压加载单元施加电源的衬底。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||