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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION FOR DEEP UV RADIATION CONTAINING AN ADDITIVE
摘要
申请公布号 EP1444551(A1) 申请公布日期 2004.08.11
申请号 EP20020787514 申请日期 2002.10.25
申请人 CLARIANT INTERNATIONAL LTD. 发明人 KUDO, TAKANORI;DAMMEL, RALPH, R.;PADMANABAN, MUNIRATHNA
分类号 G03F7/039;G03F7/004;G03F7/033;G03F7/40;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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