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发明名称
5 Mikrometer tiefer spitzer Kanalhohlraum durch oxidierendes Fusion Bonding von Silizium Substraten und Stop Ätzung
摘要
申请公布号
DE69729753(D1)
申请公布日期
2004.08.05
申请号
DE19976029753
申请日期
1997.10.06
申请人
LUCAS NOVASENSOR INC., FREMONT
发明人
MALUF, I.;LOGAN, R.;VAN SPRAKELAAR, GERTJAN
分类号
G01L9/00;(IPC1-7):G01L7/08;G01L13/00;H01L29/84
主分类号
G01L9/00
代理机构
代理人
主权项
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